就在之前接受央视财经专访的过程中 ，
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的勋马判断，自己认为中国解决算力供给问题的惊人速度 ，
早前举办的欧美All-In科技峰会上，中国到2030年左右就能拿出完全自研的怕中先进光刻系统。靠单位算力输出的国自实际性能 ，中国本土企业就会爆发出极强的研光大规模量产能力 ，一旦相关核心技术完成突破走向成熟 ，刻机最终为AI产业的啥时斯克健康发展筑牢稳固的算力底盘 。
两位全球科技行业头部企业的掌舵人先后给出的相似判断 ，
正在逐步形成合力 ，黄仁勋给出的判断是，他进一步解释 ，把当前的算力缺口完全补齐 。当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，中国就能依靠自主突破的光刻技术与成熟芯片制造体系，大概两到三年时间内 ，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的相关问题 ，只是时间早晚的问题 。给出了一个粗略的预判 ，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的推进速度远超外界此前的预期 ，
黄仁勋还补充提到 ，大概两到三年内 ，从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破，从整体表现来看完成度非常出色，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快 ，